化学气相沉积钨制品的研究现状与发展趋势

• 作者: 于洋 吕延伟 宋久鹏 颜彬游
• 来源期刊: 中国钨业
• 学科: 工学
• 关键词: 钨 化学气相沉积 涂层 难熔金属
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 冶金·材料
• 页码范围: 53-59
• 页数: 7页
• 分类号: TF114.1|TF125.2+41
• 字数: 5554字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0622.2015.02.011

摘要

化学气相沉积(Chemial vapor deposition,CVD)是制备高纯高致密钨零件及涂层的重要工艺.通过介绍采用CVD方法制备的纯钨材料的工艺与技术特点,并从CVD-W材料特性、产品种类,相关应用方向等方面阐述了CVD技术在钨材料制造中的发展情况,介绍了CVD-W在国防军工、核能、医疗等行业领域的应用,总结了CVD-W制备技术和材料的国内外现状,并指出了未来国内CVD技术在钨及难熔金属应用领域发展的总体方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于洋		8	24	3.0	4.0
2	宋久鹏		6	21	3.0	4.0
3	吕延伟		1	11	1.0	1.0
4	颜彬游		1	11	1.0	1.0