一种实用的 PECVD 腔体检漏工具设计方法

• 作者: 周梁 孙泉钦 李华 王丹名 陈垚 韩大伟
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: TFT-LCD PECVD 腔体检漏工具 自主设计
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 页码范围: 813-818
• 页数: 6页
• 分类号: TN141
• 字数: 2889字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20153005.0813

摘要

在 TFT-LCD 行业,PECVD 设备主要用于 Array TFT 基板工艺中的气相沉积；产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用；在 PECVD 工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行 PM(pre maintenance 预防性维护)。本文以 PECVD PM 作业为背景,针对设备 PM 耗时长的问题,制定了改善方法,并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程。设计制作了一台国产化检漏工具,成功运用于量产。通过测试,检漏工具3 min 内达到10 mT(1 mT＝0．133 Pa),漏率为0．45 mT/min,基本符合设备 Spec．(标准)要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周梁	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	2	1	1.0	1.0
2	韩大伟	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	1	1	1.0	1.0
3	孙泉钦	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	3	1	1.0	1.0
4	王丹名	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	2	1	1.0	1.0
5	李华	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	1	1	1.0	1.0
6	陈垚	成都京东方光电科技有限公司设备技术部	1	1	1.0	1.0