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W/NiFe/W的各向异性磁电阻效应分析
W/NiFe/W的各向异性磁电阻效应分析
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摘要：
文章采用钨（W）作为NiFe合金的缓冲层和覆盖层制备W/NiFe/W系列膜，同时制备了Ta/NiFe/Ta系列膜作对照，研究W/NiFe/W中W对NiFe薄膜AMR的影响，并对样品的磁性和微结构进行了测试和表征。通过观察可以看出，利用电阻率大、表面能大的钨作为缓冲层以及覆盖层可以很好地保证NiFe薄膜优异的软磁性能，其AMR值与利用钽元素时的结果相近。经过退火处理后，W/NiFe/W薄膜的磁性死层更小，磁性能更稳定。结果表明，W也适合作NiFe薄膜的缓冲层以及覆盖层。
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文献信息
| 篇名 | W/NiFe/W的各向异性磁电阻效应分析 | ||
| 来源期刊 | 企业技术开发：下旬刊 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 各向异性磁电阻 磁性死层 | ||
| 年，卷（期） | 2015,（2） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 75-77 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | TM721 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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研究主题发展历程
节点文献
各向异性磁电阻
磁性死层
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
企业技术开发：下旬刊
主办单位：
湖南省科学技术信息研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1006-8937
CN：
43-1172/TB
开本：
出版地：
长沙市八一路59号
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
3948
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