CdTe量子点荧光增敏法测定新霉素含量

• 作者: 李娜 毛晶 毛永强
• 来源期刊: 分析科学学报
• 学科: 化学
• 关键词: CdTe量子点 新霉素 荧光增敏
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 517-520
• 分类号: O657.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.13526/j.issn.1006-6144.2015.04.016

摘要

在水溶液中制备巯基乙酸修饰的CdTe量子点(QDs),基于新霉素对CdTeQDs的荧光增敏效应,建立了一种测定新霉素的荧光分析新方法.考察了缓冲体系及pH值、量子点浓度、反应时间等多种条件下新霉素对CdTe QDs的荧光增敏效应.结果表明,在pH=7.5的Tris-HCl缓冲溶液中,当CdTe QDs溶液为3.5×10-6 mol· L-1、反应时间为5 min时,新霉素浓度在1.0×10-8～10.0×10-8 mol·L-1范围内与体系的相对荧光强度呈良好线性关系,相关系数r=0.9996,检出限为2.6×10-10 mol·L-1.该方法简便、快速、灵敏度高,可用于实际样品中新霉素含量的测定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李娜	辽宁工程技术大学理学院	104	576	13.0	20.0
2	毛永强	辽宁工程技术大学理学院	45	137	5.0	10.0
6	毛晶	天津大学材料科学与工程学院天津市材料复合与功能化重点实验室	11	22	2.0	4.0