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Influence of ultra-thin TiN thickness (1.4 nm and 2.4 nm) on positive bias temperature instability (PBTI) of high-k/metal gate nMOSFETs with gate-last process
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摘要：
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| 篇名 | Influence of ultra-thin TiN thickness (1.4 nm and 2.4 nm) on positive bias temperature instability (PBTI) of high-k/metal gate nMOSFETs with gate-last process | ||
| 来源期刊 | 中国物理B（英文版） | 学科 | |
| 关键词 | positive bias temperature instability (PBTI) HK/MG Ea trap energy distribution | ||
| 年，卷（期） | 2015,（12） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 501-504 | |
| 页数 | 4页 | 分类号 | |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | 10.1088/1674-1056/24/12/127305 | ||
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positive bias temperature instability (PBTI)
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Ea
trap energy distribution
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期刊影响力
中国物理B(英文版)
主办单位：
中国物理学会和中国科学院物理研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-1056
CN：
11-5639/O4
开本：
出版地：
北京市中关村中国科学院物理研究所内
邮发代号：
创刊时间：
语种：
eng
出版文献量（篇）
17050
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