论微电子工艺中的清洗技术现状及展望

• 作者: 贾松
• 来源期刊: 科技风
• 关键词: 电子工艺 清洗技术 减少损伤 广阔前景
• 年，卷（期）: 2015,（15）
• 所属期刊栏目: 学术论坛
• 页码范围: 215
• 页数: 1页
• 字数: 2006字
• 语种: 中文

摘要

在当前电子工艺的发展尤其是微电子方向的发展使得微电子工艺中的清洗技术也变得越来越受重视起来.微电子工艺受各方面条件影响因而会在其中产生比较多的污染物,并且这些污染物很可能会对电子产品的功能质量产生极大影响,所以有效的采用合理的清洗技术才能更好的保障相关元件质量,广阔的市场需求也说明了微电子工艺中的清洗技术在未来会有一个良好的发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾松		1	1	1.0	1.0