纳米二氧化硅粒子的改性研究

• 作者: 任小明 施德安 朱妍娇 李爽 蒋涛 赵辉
• 来源期刊: 湖北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米二氧化硅 硅烷偶联剂KH570 接枝率 工艺配方
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 遥感技术应用研究专栏 -- 化学化工与材料科学
• 页码范围: 522-526
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 字数: 3942字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2375.2016.06.009

摘要

利用傅立叶红外光谱仪、接触角测试仪和Zeta电位测定仪等仪器分别测试未改性和γ?甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH570）改性的纳米二氧化硅粒子表面的分子结构、接触角和电荷，分析两者之间的宏观性能和微观分子结构区别，以此判断改性效果；采用TG定量分析纳米二氧化硅（ SiO2）表面偶联剂KH570的接枝率，研究分散液的pH值、偶联剂用量、水用量等工艺条件对接枝率的影响，结果表明：当偶联剂KH570用量在20％二氧化硅质量范围内，随着偶联剂用量增加接枝率不断增大，当超过这个用量后，则由于空间位阻效应导致接枝率变化不明显。