Ni-Al涂层与单晶合金互扩散行为及其对界面合金组织稳定性的影响

• 作者: 孙井永 宫声凯 李秋实 郭洪波
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Al涂层 电子束物理气相沉积 单晶高温合金 互扩散
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 497-504
• 页数: 8页
• 分类号: TG111.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.130

摘要

以二代单晶René N5为基体,采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备不同Al含量的R-25 (10.90％A1,质量分数),R-30 (14.30％A1)和R-35 (17.60％A1)涂层,3种涂层的相组成分别为γ+γ'双相、γ'单相和γ'+β双相.研究了1100℃条件下3种涂层与单晶基体的扩散行为及其对界面处单晶基体的损伤以及针状TCP相析出等微观组织的影响.发现单晶基体γ/γ1共格强化结构损伤的深度与涂层中Al的浓度非正相关,R-30涂层对基体的损伤深度最大.随着涂层中Al含量的增多,基体扩散区的TCP相增多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宫声凯		101	1626	20.0	36.0
2	李秋实		64	346	10.0	16.0
3	郭洪波		31	602	13.0	24.0
4	孙井永		3	0	0.0	0.0