双界面耦合作用对KH不稳定的影响

• 作者: 李坤 李英骏 程涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体 KH 不稳定性 界面 耦合
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: ICF 与激光等离子体
• 页码范围: 072001-1-072001-6
• 页数: 1页
• 分类号: O53
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201628.072001

摘要

研究了含有中间层的流体系统的双界面KH 不稳定性。计算发现：由于耦合作用，界面KH 不稳定性呈现出不同的增长模式。主要研究了对增长率影响最大的夹层厚度对增长模式的影响，发现厚度小于半个扰动波长时，耦合作用必须考虑。另外发现在特定厚度下，界面不稳定性将出现简并的增长模式。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李英骏	中国矿业大学理学院	14	45	4.0	6.0
2	程涛	中国矿业大学理学院	15	179	7.0	13.0
3	李坤	中国矿业大学理学院	3	14	1.0	3.0