四氟化碳含量对大气压Ar等离子体射流放电特性的影响

• 作者: 丁正方 方志 许靖
• 来源期刊: 电工技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体射流 憎水性 放电特性 发光图像 谱线强度
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 高电压与绝缘技术
• 页码范围: 159-165
• 页数: 7页
• 分类号: TM213
• 字数: 3916字
• 语种: 中文

摘要

为了产生高活性含氟低温等离子体并优化其效率,通过电压电流波形和Lissajous图形等电气特性的测量及发射光谱和发光图像等光学特性诊断,研究了CF4含量对大气压Ar等离子体射流放电特性的影响.测量得到不同外加电压下的电气特性、发光特性及光谱特性,进一步计算得到放电功率、传输电荷、放电空间主要粒子谱线强度等主要放电参量随CF4含量的变化趋势,并结合放电电离过程对所得实验结果进行了分析.结果表明,Ar/CF4等离子体射流随CF4含量的增加,电流脉冲数减少,脉冲持续时间变短,射流长度变短,发光强度减弱,传输电荷和放电功率随之减小.除F谱线外,其他主要粒子谱线均随CF4含量增加逐渐减小,F光谱在CF4含量为4％时达到最大值,此时含F基团量最多.因此,在此条件下,可用于绝缘材料表面憎水性改性,以期达到良好效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方志	南京工业大学电气工程与控制科学学院	79	835	17.0	23.0
2	许靖	南京工业大学电气工程与控制科学学院	2	2	1.0	1.0
3	丁正方	南京工业大学电气工程与控制科学学院	1	0	0.0	0.0