聚合物薄膜的大气压微等离子体射流无掩膜刻蚀工艺

• 作者: 吕栎 王涛 汪加豪 王圣泉 时礼平 李蒙 涂德浴
• 来源期刊: 安徽工业大学学报（自然科学版）
• 关键词: 微等离子体 聚合物薄膜 工艺参数 刻蚀工艺
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 机械、电气与控制
• 页码范围: 37-42
• 页数: 5页
• 分类号: TH162
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7872.2022.01.007

摘要

为优化束斑直径在微米级的大气压微等离子体射流刻蚀工艺，自制搭建一种结构简单、操作方便的大气压微等离子体射流装置，以典型聚合物parylene-C薄膜为对象，研究大气压微等离子体射流处理parylene-C薄膜的刻蚀工艺，分析O2流量、工作电压、工作间距和刻蚀时间等工艺参数对刻蚀线宽和刻蚀深度的影响。结果表明：增大O2流量、工作电压、工作间距及刻蚀时间均能增大刻蚀线宽和刻蚀深度；持续增大上述工艺参数，刻蚀线宽和刻蚀深度增加不明显，甚至减小；工作电压和工作间距对parylene-C薄膜刻蚀效果的影响较大，在刻蚀过程中起关键作用，通过调整这两个参数可实现聚合物刻蚀过程的可控调节。