大口径平面光学元件的磁流变加工

• 作者: 侯晶 唐才学 王洪祥 谢瑞清 邓文辉 陈贤华
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 平面光学元件 磁流变加工 抛光 面形精度 高功率激光器
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 高功能激光光学元器件
• 页码范围: 3054-3060
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.2|TH703
• 字数: 3446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20162412.3054

摘要

为了实现大口径平面光学元件的高精度加工,开展了磁流变加工技术的研究.介绍了磁流变加工原理及去除函数的数学模型.根据磁流变加工的特点,建立了元件整体加工的工艺流程,给出了元件加工的工艺要素.然后,开发了抛光斑的提取软件,并基于轨迹段划分的速度模式开发了工艺软件,分析了工艺软件的各项功能模块.最后,基于元件加工的工艺流程,对一件800 mm×400 mm的元件进行了加工实验.利用检测设备测得了元件的低、中、高频的加工指标,其低频反射波前PV值为34 nm,中频波前功率谱密度(PSD1)值为1.7 nm,高频粗糙度Rq值为0.27 nm.实验显示了较好的实验结果,验证了利用磁流变加工技术实现了大口径光学元件的高精度加工的可行性.本文还阐述了磁流变加工技术在高功率激光元件中应用的优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王洪祥		67	690	16.0	23.0
2	谢瑞清	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	5	19	2.0	4.0
3	陈贤华	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	14	83	5.0	9.0
4	侯晶		7	32	4.0	5.0
8	邓文辉	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	6	8	2.0	2.0
9	唐才学	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	4	8	2.0	2.0