大口径光学元件磁流变抛光工艺软件设计

• 作者: 李海波 袁志刚 郑楠 钟波
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 计算机控制抛光 去除函数 驻留时间 面形精度
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 419-422
• 分类号: TH161
• 字数: 2198字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112302.0419

摘要

基于磁流变抛光机理,采用简森-范锡图特法求解驻留时间函数以确定磁流变抛光工艺软件的核心算法设计,开展工艺软件全过程模块化、流程化设计,进行功能模块测试.软件开发过程中兼顾各功能模块间关系耦合,并完成工艺软件的代码集成测试.开展500 mm口径的微晶平面反射镜的验证实验,结果表明元件面形值获得快速有效收敛.证实了所设计的工艺软件能够精准地指导大口径光学元件的磁流变加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟波		7	40	5.0	6.0
2	李海波		8	34	3.0	5.0
3	袁志刚		9	57	6.0	7.0
4	郑楠		4	29	3.0	4.0