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烧结温度对硼硅基质荧光玻璃发光性能影响
烧结温度对硼硅基质荧光玻璃发光性能影响
作者:
李杨
杨波波
石明明
胡丽丽
邹军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Ce:YAG荧光玻璃
发光强度
色坐标漂移
烧结温度
摘要:
采用共烧结法制备了硼硅基质Ce:YAG荧光玻璃,研究了烧结温度在600℃~900℃范围内,Ce:YAG荧光玻璃的发光强度变化和色坐标漂移规律.结果表明,随着烧结温度的升高,Ce:YAG荧光玻璃发光强度先增强后减弱,700℃烧结时,荧光玻璃获得最大发光强度;超过850℃烧结时,荧光玻璃无发光性能;同时,色坐标(x,y)发生漂移,且比相同烧结温度的荧光粉漂移幅度大.通过X射线粉末衍射仪、差示扫描量热分析仪和X射线光电子能谱分析仪测试分析表明:随着烧结温度升高,荧光粉中的Ce3+被玻璃基质氧化成Ce4+,玻璃液体腐蚀破坏了荧光粉YAG晶体结构,降低了荧光玻璃的发光强度,从而导致色坐标劣化漂移.
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文献信息
篇名
烧结温度对硼硅基质荧光玻璃发光性能影响
来源期刊
无机材料学报
学科
工学
关键词
Ce:YAG荧光玻璃
发光强度
色坐标漂移
烧结温度
年,卷(期)
2017,(3)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
257-262
页数
6页
分类号
TB383
字数
1914字
语种
中文
DOI
10.15541/jim20160374
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
胡丽丽
中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光单元技术研发中心
185
1423
20.0
27.0
2
李杨
中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光单元技术研发中心
74
1047
16.0
30.0
8
邹军
上海应用技术大学理学院
27
96
6.0
8.0
12
杨波波
上海应用技术大学理学院
12
28
4.0
4.0
13
石明明
上海应用技术大学理学院
14
23
4.0
4.0
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参考文献(1)
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参考文献(0)
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二级引证文献(0)
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引证文献(3)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
Ce:YAG荧光玻璃
发光强度
色坐标漂移
烧结温度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无机材料学报
主办单位:
中国科学院上海硅酸盐研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-324X
CN:
31-1363/TQ
开本:
16开
出版地:
上海市定西路1295号
邮发代号:
4-504
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
4760
总下载数(次)
8
总被引数(次)
61689
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