硅锆涂层对氧化锆与饰瓷结合强度的影响研究

• 作者: 刘洋 刘洪方 周昆鹏 王友文 程美佳 金华 韩颖超 马媛媛 高士军
• 来源期刊: 中国体视学与图像分析
• 学科: 医学
• 关键词: 氧化锆 饰面瓷 硅锆涂层 结合强度
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 429-434
• 页数: 6页
• 分类号: R783.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13505/j.1007-1482.2017.22.04.008

摘要

目的 研究硅锆涂层对氧化锆基底与饰面瓷结合强度的影响.方法 通过CAD/CAM制作二氧化锆瓷片,分为两组,A组为常规烧结处理组,B组经过硅锆涂层处理后烧结组.两组按照堆瓷步骤堆塑饰面瓷后再次烧结,完成标准剪切试件的制作.通过扫描电镜观察两组涂瓷前表面形态,万能测试机检测瓷体间结合强度.结果 A组剪切结合强度为(25.26±1.35) MPa,B组的剪切结合强度为(29.63±1.59) MPa,t检验方差分析表明,两组的结合强度差异有显著意义(P＜0.01).结论 在氧化锆基底进行硅锆涂层增加了氧化锆基底与饰面瓷的结合强度,在临床上具有可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高士军		38	61	4.0	5.0
2	刘洋		71	155	7.0	9.0
3	韩颖超		3	2	1.0	1.0
4	刘洪方		2	0	0.0	0.0
5	程美佳		4	4	2.0	2.0
6	周昆鹏		3	2	1.0	1.0
7	王友文		3	2	1.0	1.0
8	金华		7	8	2.0	2.0
9	马媛媛		2	2	1.0	1.0