表面抛光和上釉对Y?TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

• 作者: 吴凤鸣 张凯
• 来源期刊: 口腔医学
• 学科: 医学
• 关键词: 上釉 抛光 磨耗 氧化锆全瓷
• 年，卷（期）: 2017,（10）
• 所属期刊栏目: 临床研究
• 页码范围: 914-917
• 页数: 4页
• 分类号: R783.2
• 字数: 3460字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13591/j.cnki.kqyx.2017.10.012

摘要

目的 研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响.方法 制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理.测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量.结果 抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05).被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01).各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01).结论 上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度.抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张凯	东南大学医学院	24	53	4.0	6.0
2	吴凤鸣	南京医科大学口腔医学研究所	66	396	11.0	16.0