高分子沉淀剂在HPLC法检测防腐剂时抗化妆品基质干扰的效果研究

• 作者: 刘钊 刘齐 张华珺 张蓉
• 来源期刊: 日用化学品科学
• 学科: 工学
• 关键词: 化妆品 防腐剂 高分子沉淀剂 基质干扰
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 科技广场
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TQ658
• 字数: 3628字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13222/j.cnki.dc.2017.02.003

摘要

选用霜、乳、液3类化妆品为研究对象,考察高分子沉淀剂对HPLC法检测防腐剂过程中的抗基质干扰效果.实验发现乙酸锌、亚铁氰化钾联合使用可有效去除霜、乳、液3类化妆品基质对防腐剂测定的干扰,12种防腐剂的色谱峰峰型尖锐对称,无杂峰干扰,线性相关系数均大于0.999 9,方法相对标准偏差小于2％,回收率为90％～ 104％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张华珺		10	27	3.0	5.0
2	张蓉		18	49	4.0	6.0
3	刘齐		12	31	3.0	5.0
4	刘钊		1	0	0.0	0.0