反应气体对ZrB2涂层物相及显微结构的影响

• 作者: 张军 张磊 李国栋 熊翔
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: ZrB2涂层 化学气相沉积 显微结构 反应气体 石墨
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 335-341
• 页数: 7页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文

摘要

以ZrCl4-BCl3-H2-Ar为反应体系,采用化学气相沉积法在石墨基体表面制备ZrB2涂层.使用X射线衍射和扫描电镜(SEM)研究H2和B与Zr的摩尔比对ZrB2涂层物相和显微结构的影响.研究表明:在温度为1500℃,H2流量为400 mL/min,B:Zr为1.434时,制备得到柱状晶组织的ZrB2涂层.ZrB2涂层中晶粒的生长以〈110〉和〈100〉方向为主,并随反应气体BCl3或H2流量增加,〈110〉方向生长减弱,〈100〉方向生长增强.H2流量变化导致沉积过程中气体的滞留时间和反应物组分变化,对涂层物相和结构产生影响.随H2流量增加,涂层由致密变得疏松;当H2流量为800 mL/min,B:Zr为1.434时,涂层中出现ZrB相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	345	3793	27.0	39.0
2	李国栋	中南大学粉末冶金国家重点实验室	53	255	9.0	11.0
3	张磊	中南大学粉末冶金国家重点实验室	86	493	11.0	20.0
4	张军	中南大学粉末冶金国家重点实验室	40	362	10.0	17.0