添加剂对DMH体系电沉积金的影响

• 作者: 安茂忠 杨潇薇
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金 无氰 DMH 添加剂 电沉积
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 页码范围: 98-104
• 页数: 7页
• 分类号: O64
• 字数: 3169字
• 语种: 中文

摘要

在以5,5'-二甲基已内酰脲(DMH)为配位剂的镀液体系中研究了添加剂 C4H6O2、C7H4NNaO3S 和 C12H25 SO4 Na对金电沉积工艺和电结晶过程的影响。阴极极化曲线测试中,金电沉积的最佳电势区间是-0.60~-1.2 V,添加剂浓度在研究的范围内对阴极极化电势的影响较小。循环伏安曲线结果表明,反应界面上添加剂的吸附能够影响成核生长超电势,对金还原过程表现出抑制作用。电化学阻抗谱研究表明,镀液中加入添加剂后,电荷转移过程变得更加困难。 SEM观察表明,添加剂改善了镀层质量,晶粒变得细致、均匀。 XRD分析证实,两种镀液体系中获得的镀金层都沿着Au(111)和(220)晶面择优生长。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安茂忠	哈尔滨工业大学化工学院	148	2092	24.0	37.0
2	杨潇薇	中国工程物理研究院电子工程研究所	14	39	4.0	5.0