SiO2微盘腔的湿法腐蚀工艺研究

• 作者: 应磊莹 张保平 杨文 江水森 蔡志平 郭长磊 龙浩
• 来源期刊: 厦门大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 回音壁 KOH溶液 微盘腔 自由光谱范围 Q值
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 410-415
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 4057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.6043/j.issn.0438-0479.201611035

摘要

SiO2回音壁模式(whispering gallery mode,WGM)的光学谐振腔具有品质因子Q值高、模式体积小、制作简单等优点,在腔量子电动力学、生物传感器、滤波器、非线性光学等领域具有非常好的应用前景.采用热氧化生长SiO2、光刻图形化、磁控溅射生长Cr掩膜、HF缓冲液湿法腐蚀SiO2、KOH溶液湿法腐蚀Si并去除Cr掩膜等工艺,得到了周期化、尺寸不同的SiO2微盘腔,其直径分别为20,40和60 μm.利用原子力显微镜表征微盘腔表面的粗糙度,均方根表面粗糙度仅为0.469 nm.在未经任何表面处理或者激光处理的情况下,利用连续波长可调激光器,通过光纤锥与微盘腔耦合,透射谱测量得到微盘腔的自由光谱范围(free spectrum range,FSR)为λFSR=9.6 nm,Q值约为1×104.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡志平	厦门大学信息科学与技术学院	44	159	8.0	10.0
2	张保平	厦门大学信息科学与技术学院	21	95	5.0	9.0
3	杨文	厦门大学信息科学与技术学院	2	1	1.0	1.0
4	龙浩	厦门大学信息科学与技术学院	2	2	1.0	1.0
5	郭长磊	厦门大学信息科学与技术学院	3	5	1.0	2.0
6	江水森	厦门大学信息科学与技术学院	1	1	1.0	1.0
7	应磊莹	厦门大学信息科学与技术学院	8	6	2.0	2.0