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水浸超声C扫描系统在等离子喷涂靶材缺陷检测中的应用
水浸超声C扫描系统在等离子喷涂靶材缺陷检测中的应用
作者:
张科
李强
陈钦忠
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子喷涂靶材
水浸超声C扫描
缺陷检测
孔洞
密度不均匀
摘要:
通过控制等离子喷涂工艺,在靶材涂层内部分别人为制备孔洞、密度分布不均匀两种典型缺陷,并进行水浸超声C扫描成像及波形分析.结果表明:检测结果与人工设计缺陷基本相符,验证了水浸超声C扫描系统用于检测等离子喷涂靶材缺陷具有足够的灵敏度及可靠性,这对于喷涂靶材产品的质量控制具有重要意义.
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研究现状
等离子喷涂分布控制系统
分布控制
等离子喷涂
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内容分析
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内容分析
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文献信息
篇名
水浸超声C扫描系统在等离子喷涂靶材缺陷检测中的应用
来源期刊
理化检验-物理分册
学科
物理学
关键词
等离子喷涂靶材
水浸超声C扫描
缺陷检测
孔洞
密度不均匀
年,卷(期)
2017,(2)
所属期刊栏目
试验技术与方法
研究方向
页码范围
105-109
页数
5页
分类号
O426.9
字数
3773字
语种
中文
DOI
10.11973/lhjy-wl201702007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李强
福州大学材料科学与工程学院
71
542
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2
张科
福州大学材料科学与工程学院
1
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陈钦忠
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水浸超声C扫描
缺陷检测
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密度不均匀
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
理化检验-物理分册
主办单位:
上海材料研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-4012
CN:
31-1338/TB
开本:
大16开
出版地:
上海市邯郸路99号
邮发代号:
4-183
创刊时间:
1963
语种:
chi
出版文献量(篇)
4196
总下载数(次)
10
总被引数(次)
16172
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