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InSb薄膜磁阻效应的厚度依赖性
InSb薄膜磁阻效应的厚度依赖性
作者:
宋志勇
康亭亭
张豫徽
林铁
田丰
陈平平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
锑化铟
磁阻效应
弱反局域化效应
界面/表面态
摘要:
在12 ~300 K的温度范围内研究了InSb薄膜(利用MBE生长)的磁阻效应随厚度的变化关系.实验发现厚的InSb薄膜只能产生半经典(oB2)磁阻效应.而减小薄膜厚度,在薄的InSb薄膜中会更容易出现弱反局域化效应,从而造成在低温下(<35 K)出现了一个异常的随温度增加而迁移率降低的趋势.我们发现该弱反局域化效应可用HLN模型拟合,证明了它可能来源于二维(2-D)体系,比如InSb的界面态.
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文献信息
篇名
InSb薄膜磁阻效应的厚度依赖性
来源期刊
红外与毫米波学报
学科
物理学
关键词
锑化铟
磁阻效应
弱反局域化效应
界面/表面态
年,卷(期)
2017,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
311-315
页数
5页
分类号
O472|O484
字数
4443字
语种
中文
DOI
10.11972/j.issn.1001-9014.2017.03.011
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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弱反局域化效应
界面/表面态
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
红外与毫米波学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海技术物理所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-9014
CN:
31-1577/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市玉田路500号
邮发代号:
4-335
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
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