光子石墨烯中赝磁场作用下的谷霍尔效应

• 作者: 刘艳红 孙勇 石云龙 董丽娟 邓富胜
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 光子晶体 光子石墨烯 赝磁场 谷霍尔效应
• 年，卷（期）: 2017,（14）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 374-380
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.66.144204

摘要

将石墨烯中赝磁场的产生机理运用于光子石墨烯,通过在光子石墨烯中引入晶格有规律单轴形变的方式,理论分析得到了谷依赖的均匀赝磁场,并通过数值模拟的方法观察到明显的谷霍尔效应.这种谷霍尔效应的显著程度随晶格形变度的增加而加强.在具有一定损耗的电介质材料构成的形变光子石墨烯中仍可观察到明显的谷霍尔效应.随着电介质材料损耗的增加,谷霍尔效应导致的波束转弯效果依然能够保持,只是强度逐渐变弱.类似于自旋电子学中的自旋霍尔效应,这种光子石墨烯中等效赝磁场作用下的谷霍尔效应在未来谷极化器件的设计和应用中具有重要意义.