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摘要:
电子束快速成型设备偏扫系统工作频率高,磁偏扫装置的铁损、涡流等损耗导致偏扫轨迹产生偏差.通过获取偏扫区域内特征点基准偏扫参数并由插补算法计算区域内任意一点偏扫参数,能够较好地抑制动态偏差;但由光学观察系统判断电子束斑点位置所获得的基准偏扫参数精确性较低.为提高偏扫轨迹精度,在现有电子束快速成型机上加装一种特征点参数采集装置,收集产生的二次反射电子,通过二次反射电子信号判断特征点通孔中心与电子束斑点中心的对中性.实验表明:当电子束斑点位于特征点中心且聚焦于上表面时,二次反射电子信号最小,此时获得的基准偏扫参数精确性高,能够提高电子束偏扫加工的精度.
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文献信息
篇名 一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 偏扫电流 校正 特征点 参数采集 二次反射电子
年,卷(期) 2017,(7) 所属期刊栏目 粒子束技术
研究方向 页码范围 60-66
页数 7页 分类号 TG439.3
字数 4112字 语种 中文
DOI 10.11884/HPLPB201729.160483
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韦寿祺 49 284 6.0 15.0
2 刘胜 4 2 1.0 1.0
3 朱进鹏 2 2 1.0 1.0
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二次反射电子
研究起点
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期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
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