原文服务方: 电子质量       
摘要:
该文研究了TTSV间隙布置方法下三维集成电路的温度场与应力场.应用正交试验设计的方法,对电路的温度场与应力场进行仿真,并通过方差数值分析,客观地对TTSV的多个因素进行单独分析和多因素交互分析.从而能在电路芯片的物理设计阶段,通过优化参数数值,使芯片的温度与应力值显著下降.
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正交试验
多指标
分析
方法
内容分析
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文献信息
篇名 多物理场下多因素交互的TTSV正交试验分析
来源期刊 电子质量 学科
关键词 TTSV 温度场 应力场 正交试验
年,卷(期) 2017,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 28-32,37
页数 6页 分类号 TN41
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈洁坤 3 8 1.0 2.0
2 管祥生 3 8 1.0 2.0
3 赵松杰 3 1 1.0 1.0
4 赵健 2 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
TTSV
温度场
应力场
正交试验
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子质量
月刊
1003-0107
44-1038/TN
大16开
1980-01-01
chi
出版文献量(篇)
6848
总下载数(次)
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