电化学合成氧化钴/聚苯胺复合膜工艺研究

• 作者: 林雪 牟世辉 郝建军
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 恒电位法 氧化钴 耐蚀性 聚苯胺
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 新技术新工艺
• 页码范围: 22-25,41
• 页数: 5页
• 分类号: TB33
• 字数: 3167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2018.03.005

摘要

采用单因素对比试验对电化学合成氧化钴/聚苯胺复合膜工艺进行了研究,并利用电化学测试技术、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钴/聚苯胺复合膜的性能进行测试.结果表明,采用恒电位法制备氧化钴/聚苯胺膜微观呈现为规则片状形貌,膜层覆盖均匀,其腐蚀电位-0.04V,腐蚀电流47.42 μA,10％ HCl点滴腐蚀时间达382 s,10％ NaOH点滴腐蚀时间达到364 s,中性盐雾实验48h未见锈蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝建军		69	350	10.0	15.0
2	牟世辉		20	107	6.0	9.0
3	林雪		4	4	1.0	2.0