返滴定法测定氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉

• 作者: 王小琴 郭崇武
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 化学
• 关键词: 氯化钾无氰镀镉溶液 掩蔽剂 氯化镉 返滴定法
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 分析检测
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.17|O655.25
• 字数: 2142字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2018.03.010

摘要

制定了氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉的返滴定分析方法,在强酸性和加热条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,使镉离子从配合物中释放出来.用氟化钠掩蔽Al3+和Sn4杂质,用三乙醇胺掩蔽Fe3+杂质.加入过量的EDTA标准溶液配位Cd2,在pH≈9.3的条件下,以铬黑T作指示剂,用硫酸锌标准溶液返滴定EDTA,用差减法计算镀液中氯化镉的质量浓度.结果表明,测定结果的相对平均偏差为0.19％,回收率为98.03％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭崇武		111	251	7.0	9.0
2	王小琴		3	9	2.0	3.0