压电陶瓷圆片单面研磨抛光工艺

• 作者: 于新晓 刘善群 唐运红 张静雯 李洪平 米佳 罗夏林 谭桂娟 鄢秋娟
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 单抛晶片 双面研磨 双面抛光 化学腐蚀 水溶粘接剂
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 页码范围: 585-588
• 页数: 4页
• 分类号: TM282
• 字数: 4503字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11977/j.issn.1004-2474.2018.04.025

摘要

介绍了一种在行星式双面磨抛设备上对压电陶瓷圆片进行单面研磨和抛光的工艺.在加工过程中,使用了自制的全水溶性粘接剂来粘接晶片,实现了圆片单面所有磨抛加工流程都在双面磨抛设备上进行.采用自制化学腐蚀液分段腐蚀控制圆片形貌(翘曲度)的变化,中间研磨工序优化介质控制表面粗糙度和划道、SiO2胶体化学机械抛光去除亚损伤层,获得了高品质的铝钛酸铝压电陶瓷(PZT)单面抛光圆片.