4种粘接剂对牙本质粘接界面的纳米渗漏研究

• 作者: 赖仁发 马淑媛 高晓利 黄怡
• 来源期刊: 中华老年口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 粘接剂 牙本质 扫描电镜 纳米渗漏 边缘密合性
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 口腔修复
• 页码范围: 161-164
• 页数: 4页
• 分类号: R783
• 字数: 3059字
• 语种: 中文

摘要

目的:通过纳米渗漏检测技术,观察4种粘接剂对牙本质粘接界面的微观形态及纳米渗漏情况,为临床上纳米渗漏的预防和牙本质粘接剂的选择提供参考.方法:选取48颗正常第三磨牙,随机分为4组,分别用A(Single bond 2)、B(Clearfil SE Bond)、C(XenoⅢ)、D(Easy one)4种粘接剂制备试件,50％硝酸氨银溶液渗染,扫描电镜下观察比较粘接界面的纳米渗漏程度.结果:4种粘接剂均有纳米渗漏发生.A组的纳米渗漏位于混合层底部,B、C和D组全层均可见.其中,A和C组的纳米渗漏无显著性差异(P＞0.05),两者均多于B组,少于D组.结论:所有粘接剂均有纳米渗漏发生.全酸蚀粘接剂发生在混合层底部,自酸蚀粘接剂全层均可见.Clearfil SE Bond的纳米渗漏较Single bond 2和XenoⅢ少,Easy one的纳米渗漏最明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赖仁发	暨南大学附属第一医院暨南大学口腔医学院	72	262	8.0	11.0
2	马淑媛	暨南大学附属第一医院暨南大学口腔医学院	15	85	6.0	8.0
3	黄怡	暨南大学附属第一医院暨南大学口腔医学院	4	13	2.0	3.0
4	高晓利	暨南大学附属第一医院暨南大学口腔医学院	5	7	2.0	2.0