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摘要:
采用脉冲激光沉积方法在GaAs(001)单晶基片上生长LaAlO 3薄膜构成LaAlO 3/GaAs异质结,利用原子力显微镜和XRD对LaAlO 3/GaAs异质结进行表征,并通过PPMS对LaAlO 3/GaAs异质结进行面内电阻和霍尔电阻测试,研究其界面电输运性能.结果表明,LaAlO 3在GaAs表面生长均匀,LaAlO 3/GaAs异质结界面处存在空穴型的导电行为,且该空穴来源于界面处的悬空键效应.
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文献信息
篇名 LaAlO3/GaAs异质结界面的空穴导电行为分析
来源期刊 武汉科技大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 LaAlO3 GaAs 异质结界面 空穴导电 电输运
年,卷(期) 2018,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 429-433
页数 5页 分类号 O469
字数 2761字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-3644.2018.06.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 毛田田 武汉科技大学理学院 2 1 1.0 1.0
2 廖锡龙 武汉科技大学理学院 2 1 1.0 1.0
3 杨云龙 武汉科技大学理学院 3 1 1.0 1.0
4 荔静 武汉科技大学理学院 1 0 0.0 0.0
5 熊昌民 北京师范大学物理学系 5 2 1.0 1.0
6 王登京 武汉科技大学理学院 5 4 1.0 1.0
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GaAs
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空穴导电
电输运
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武汉科技大学学报(自然科学版)
双月刊
1674-3644
42-1608/N
湖北武汉青山区
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