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浅谈CPC在半导体制造与处理领域的检索应用
浅谈CPC在半导体制造与处理领域的检索应用
作者:
孙宁宁
王建霞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CPC分类
检索
半导体制造与处理
摘要:
虽然H01L21/00下的IPC分类号并不少,但因为分类比较混杂,且半导体领域技术更新较快,IPC的更新速度远远跟不上半导体技术革新的速度,导致该领域采用IPC分类号检索较为困难.本文对该领域相关的IPC及CPC分类号进行了比较、分析,并通过实际检索案例分析了CPC分类号在半导体制造及处理领域的优势.合理、灵活地运用CPC分类号,能够降低噪音、提高检索效率.
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浅谈CPC在半导体制造与处理领域的检索应用
来源期刊
中国发明与专利
学科
社会科学
关键词
CPC分类
检索
半导体制造与处理
年,卷(期)
2018,(z2)
所属期刊栏目
审查实践
研究方向
页码范围
124-130
页数
7页
分类号
G306
字数
6592字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王建霞
3
1
1.0
1.0
2
孙宁宁
3
1
1.0
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传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
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2018(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
CPC分类
检索
半导体制造与处理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国发明与专利
主办单位:
知识产权出版社
中国发明协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-6081
CN:
11-5124/T
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区西外太平庄55号知识产权出版社有限责任公司
邮发代号:
82-550
创刊时间:
2004
语种:
chi
出版文献量(篇)
6944
总下载数(次)
27
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