活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制

• 作者: 李广宇 雷明凯
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 活性屏等离子体源渗氮 奥氏体不锈钢 工艺特性 线性回归 传质机制
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 92-98
• 页数: 7页
• 分类号: TG156.82
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20180521003

摘要

为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性(试样偏压电位和试样距屏高度)对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的影响规律,利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据,绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI316奥氏体不锈钢的工艺特性图,以此确定其最佳工艺参数.并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分析,探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制.结果表明:渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低,当适当降低渗氮气压或试样施加一定负偏压时,均有助于提高渗氮层的厚度,并且证实了“溅射-再沉积”模型是活性屏等离子体源渗氮重要的传质机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷明凯	大连理工大学材料科学与工程学院	115	712	14.0	19.0
2	李广宇	营口理工学院机械与动力工程系	12	21	2.0	4.0