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摘要:
series of boron-and phosphorus-doped silicon wafers are used to prepare a series of doped silicon nanocrystals (nc-Si) by high-energy ball milling with carboxylic acid-terminated surface.The sizes of the nc-Si samples are demonstrated to be <5nm.The doping levels of the nc-Si are found to be nonlinearly dependent on the original doping level of the wafers by x-ray photoelectron spectroscopy measurement.It is found that the nonlinear doping process will lead to the nonlinear chemical passivation and photoluminescence (PL) intensity evolution.The doping,chemical passivation and PL mechanisms of the doped nc-Si samples prepared by mechanochemical synthesis are analyzed in detail.
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篇名 Nonlinear Doping, Chemical Passivation and Photoluminescence Mechanism in Water-Soluble Silicon Quantum Dots by Mechanochemical Synthesis
来源期刊 中国物理快报(英文版) 学科
关键词 @@
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 62-66
页数 5页 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/0256-307X/35/3/036801
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期刊影响力
中国物理快报(英文版)
月刊
0256-307X
11-1959/O4
16开
北京中关村中国科学院物理研究所内
1984
eng
出版文献量(篇)
14318
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