彩色滤光片光阻残不良改善的研究

• 作者: 孙超 张丽娜 张正林
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: TFT-LCD CF 光阻残 设备 工艺参数 NGLoss率
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 页码范围: 67-70
• 页数: 4页
• 分类号: TP394.1|TH691.9
• 字数: 2230字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2018.05.017

摘要

在TFT-LCD行业彩色滤光片制造中,大颗色阻残留缺陷对产品的良率影响较大,直接导致制造企业的经济效益下降.因此,如何有效降低光阻残影响是业内一个极具挑战性的工作.分析光阻残缺陷的现象和成因,技术人员通过设备清洁与保养、工艺参数优化改善CF制造过程中大颗光阻残留缺陷.研究表明,提升曝光量、增加显影时间和技术人员作业手法优化、涂布设备清洁优化的联合运用,可以有效改善光阻残的发生状况,使CF量产品光阻残缺陷NG Loss率降低0.69％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽娜		3	1	1.0	1.0
2	张正林		2	1	1.0	1.0
3	孙超		2	1	1.0	1.0