膜修饰液/液界面上亚叶酸离子的转移

• 作者: 于雅倩 刘书峰 姜涛 张烨桦 陈勇
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 亚叶酸钙 液/液界面 离子转移 膜 电化学
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 物理化学
• 页码范围: 764-770
• 页数: 7页
• 分类号: O647
• 字数: 3803字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20170413

摘要

采用复合介孔膜修饰水/1,6-二氯己烷(W/DCH)界面得到阵列介观W/DCH界面,利用循环伏安法、差分脉冲伏安法以及计时电量法考察了亚叶酸离子在该阵列介观W/DCH界面上的转移过程.结果表明,亚叶酸离子在膜修饰W/DCH界面上转移的电化学响应与复合介孔膜内表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵密切相关.循环伏安结果表明,亚叶酸离子由膜内水相向油相转移的峰电流与扫描速率的平方根呈线性关系,根据Randles-Sevˇcik方程,计算得到亚叶酸离子在复合介孔膜内水相中的扩散系数为2.036×10-8cm2/s.利用计时电量法测得亚叶酸离子在该界面上转移反应的标准速率常数为2.72×10-3cm/s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈勇	上海应用技术大学化学与环境工程学院	11	7	1.0	1.0
2	刘书峰	上海应用技术大学化学与环境工程学院	2	1	1.0	1.0
3	姜涛	上海应用技术大学化学与环境工程学院	2	1	1.0	1.0
4	张烨桦	上海应用技术大学化学与环境工程学院	3	1	1.0	1.0
5	于雅倩	上海应用技术大学化学与环境工程学院	1	1	1.0	1.0