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摘要:
湿法腐蚀相对于干法腐蚀操作简单,成本低廉,用时短,产能高等优点在集成电路制造中获得广泛应用.基于湿法腐蚀存在侧向钻蚀的特性,因此对光刻胶和待腐蚀材料黏附性有一定要求.对于金属湿法腐蚀,光刻胶与金属等之间粘附性牢固程度直接影响到湿法腐蚀金属线条的质量,决定金属线条的形貌.如果湿法腐蚀时发生浮胶,光刻胶和待刻蚀物质侧向钻蚀出现不可控现象,金属线条整体或者局部区域变细,会严重影响到产品使用可靠性.通过实验分析金属铝湿法腐蚀烘箱工艺,确定最佳烘箱工艺条件,提高胶的黏附性,并为建立烘箱温度监控提供指导.
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文献信息
篇名 湿法腐蚀金属铝中胶黏附性技术研究
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 集成电路制造 湿法腐蚀,铝,光刻胶,粘附性,烘箱
年,卷(期) 2018,(7) 所属期刊栏目 工艺与制造
研究方向 页码范围 33-36
页数 4页 分类号 TN405
字数 2368字 语种 中文
DOI 10.19339/j.issn.1674-2583.2018.07.009
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路制造
湿法腐蚀,铝,光刻胶,粘附性,烘箱
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
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15
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