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摘要:
The influences of total ionizing dose (TID) on the single event effect (SEE) sensitivity of 34-nm and 25-nm NAND flash memories are investigated in this paper. The increase in the cross section of heavy-ion single event upset (SEU) in memories that have ever been exposed to TID is observed, which is attributed to the combination of the threshold voltage shifts induced byγ-rays and heavy ions. Retention errors in floating gate (FG) cells after heavy ion irradiation are observed. Moreover, the cross section of retention error increases if the memory has ever been exposed to TID. This effect is more evident at a low linear energy transfer (LET) value. The underlying mechanism is identified as the combination of the defects induced byγ-rays and heavy ions, which increases the possibility to constitute a multi-trap assisted tunneling (m-TAT) path across the tunnel oxide.
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文献信息
篇名 Influences of total ionizing dose on single event effect sensitivity in floating gate cells
来源期刊 中国物理B(英文版) 学科
关键词 flash memories heavy ions synergistic effect total ionizing dose
年,卷(期) 2018,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 410-415
页数 6页 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/1674-1056/27/8/086103
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研究主题发展历程
节点文献
flash memories
heavy ions
synergistic effect
total ionizing dose
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
eng
出版文献量(篇)
17050
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