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MoS2纳米片阵列的制备及其应用现状
MoS2纳米片阵列的制备及其应用现状
作者:
俞泽民
关恩昊
宋姗姗
岳红彦
张宏杰
王婉秋
王宝
王钊
高鑫
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
二硫化钼纳米阵列
制备方法
应用现状
摘要:
二硫化钼(MoS2)纳米片阵列是MoS2纳米片与基底材料结合形成的一种具有三维结构的纳米材料.该材料具有优异的导电性和良好的稳定性,广泛应用于析氢反应、超级电容器以及锂离子电池.综述了MoS2纳米片阵列的主要制备方法,包括水热(溶剂热)合成法、溶解-生长法、物理气相沉积法,以及其应用现状.
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篇名
MoS2纳米片阵列的制备及其应用现状
来源期刊
化工新型材料
学科
关键词
二硫化钼纳米阵列
制备方法
应用现状
年,卷(期)
2018,(12)
所属期刊栏目
开发与应用
研究方向
页码范围
264-267
页数
4页
分类号
字数
语种
中文
DOI
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岳红彦
32
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俞泽民
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高鑫
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王婉秋
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二硫化钼纳米阵列
制备方法
应用现状
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化工新型材料
主办单位:
中国化工信息中心
出版周期:
月刊
ISSN:
1006-3536
CN:
11-2357/TQ
开本:
大16开
出版地:
北京安定门外小关街53号
邮发代号:
82-816
创刊时间:
1973
语种:
chi
出版文献量(篇)
12024
总下载数(次)
55
总被引数(次)
58321
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