光敏感gel/CMC/PPy离子印迹凝胶材料的制备及其对水体铬离子的综合治理

• 作者: 张泽文 杨斌 王峰 申宇 石雄飞 邢建宇
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 离子印迹 光敏感 明胶 聚吡咯 Cr(Ⅵ)
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 271-274,278
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

以廉价明胶(gel)和羧甲基纤维素钠(CMC)为基质,辅以聚吡咯(PPy)为修饰剂,利用铬酸作为氧化剂构建Cr(Ⅵ)离子印迹空穴,制备出了光敏感离子印迹材料(ⅡP),并对其性能进行了评估.实验结果表明,制备出的ⅡP不仅成本低、具有良好的Cr(Ⅵ)吸附选择性,还具有优良的光敏感性,可通过光热作用增强吸附离子的洗脱.另外,ⅡP还具有原位还原性,能够有效地将吸附的Cr(Ⅵ)还原成Cr(Ⅲ),实现对Cr(Ⅵ)的综合治理.