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集成光开关发展现状及关键技术(特邀)
集成光开关发展现状及关键技术(特邀)
作者:
周林杰
李祖湘
李鑫
赵硕义
郭展志
陆梁军
陈建平
高伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
硅基光电子
光开关
光波导
集成光子学
摘要:
随着网络传输数据流量的爆炸性增长,传统电交换由于其有限的带宽和高功耗将很难满足网络带宽发展需求.光交换能直接在光域上完成光信道间信息的交换,具有高速、宽带、透明、低功耗以及潜在的低成本等诸多优点,能满足下一代全光交换网络、数据中心和高性能计算机光互连网络建设的迫切需求.文章介绍了集成光开关的发展现状及核心技术,包括采用氧化硅、III-V族半导体材料和硅材料来制作光开关的进展以及各种技术的特点.其中硅基集成光开关具有结构紧凑、功耗小、成本低以及与互补型金属-氧化物-半导体(CMOS)工艺兼容的优势,适合大规模光开关制作和量产,具有潜在的巨大市场商用价值.文章重点介绍了实现硅基光开关的核心单元器件以及几种代表性光开关阵列,并对光开关状态监控和调节以及光电封装做了阐述.
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文献信息
篇名
集成光开关发展现状及关键技术(特邀)
来源期刊
光通信研究
学科
物理学
关键词
硅基光电子
光开关
光波导
集成光子学
年,卷(期)
2019,(1)
所属期刊栏目
特邀稿件
研究方向
页码范围
9-26
页数
18页
分类号
O436
字数
17369字
语种
中文
DOI
10.13756/j.gtxyj.2019.01.002
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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研究主题发展历程
节点文献
硅基光电子
光开关
光波导
集成光子学
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光通信研究
主办单位:
武汉邮电科学研究院企管部
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-8788
CN:
42-1266/TN
开本:
大16开
出版地:
武汉市洪山区邮科院路88号
邮发代号:
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
2524
总下载数(次)
3
总被引数(次)
10254
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