多孔压敏荧光粒子的制备与流场压力/速度测量的性能表征

• 作者: 刘应征 彭迪 温新 谷丰
• 来源期刊: 实验流体力学
• 学科: 航空航天
• 关键词: 多孔粒子 PSP PIV 压力速度同步测量
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 72-78
• 页数: 7页
• 分类号: V211.71
• 字数: 4598字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11729/syltlx20180180

摘要

开发了一类微米级压敏荧光粒子.该粒子由表面多孔的空心二氧化硅(SiO2)粒子与压敏荧光材料(PtTFPP和Ru(dpp))融合而成.通过浸染方法使压敏荧光分子附着于粒子上,形成多功能示踪粒子,从而将粒子图像速度场测量技术(Particle Image Velocimetry,PIV)与压敏漆(Pressure Sensitive Paint,PSP)技术相结合,发展了一种流场压力与速度同步测量的技术,为流体力学研究提供一种崭新的实验测量手段.利用PSP静态与动态标定系统,对压敏粒子的信号强度、压力敏感性与压力响应时间进行了测量,研究了不同粒径和不同材料对压敏粒子性能的影响.测量结果表明,制备的压敏粒子具有较好的压力敏感性,其压力响应时间区间为40～70μm,符合测量流场瞬态压力的需求.分析了粒子在流场中的跟随性能,其中2μm粒子松弛时间为7.5μs,有较好的跟随性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘应征	上海交通大学机械与动力工程学院叶轮机械研究所	50	309	11.0	15.0
5	谷丰	上海交通大学机械与动力工程学院叶轮机械研究所	1	0	0.0	0.0
9	彭迪	上海交通大学机械与动力工程学院叶轮机械研究所	5	0	0.0	0.0
13	温新	上海交通大学机械与动力工程学院叶轮机械研究所	1	0	0.0	0.0