复杂光滑曲面的磁射流工具磁场优化

• 作者: 冯云鹏 杨昊 王钟瑛 程灏波 胡敏
• 来源期刊: 机械工程与技术
• 学科: 教育
• 关键词: 磁射流抛光技术 磁场优化 复杂光滑曲面
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 页码范围: 431-440
• 页数: 10页
• 分类号: G63

摘要

磁射流抛光技术在对复杂光滑曲面的加工上具有传统抛光技术无可比拟的优势。本文对磁射流抛光技术的工艺参数进行了研究,包括喷头体的结构参数和磁场优化。根据磁射流加工机理和电磁学相关理论,仿真分析得到当电磁线圈选定时合适的工艺参数为:锥角40?、喷嘴台面半径3 mm和喷头嵌入深度为线圈高度1/2。通过比较磁场束缚下抛光液在不同距离的材料去除效果,说明了其加工过程中的距离稳定性和时间稳定性。对不同面型和材料的加工效果研究,验证了工艺参数优化的合理性,扩展了磁射流抛光技术的应用范围。