Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中BCl3气体作用研究

• 作者: 刘杰 吴国特 李淳东 李知勋 苗占成 陈兵
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: Ti/Al/Ti 干法刻蚀 BCl3 侧面保护 PR胶刻蚀速度
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 857-861
• 页数: 5页
• 分类号: TN321+.5
• 字数: 1894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20193409.0857

摘要

随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,布线越来越窄.目前LTPS显示技术中常规的设计为Ti/Al/Ti材料衬底使用无机膜,后续柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面临的挑战越来越大.本文主要研究在常规Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺中,BCl3气体对Ti/Al/Ti侧面形态的影响以及对光刻胶刻蚀速率的影响,实验结果表明:随着BCl3气体流量的增加,Ti/Al/Ti侧面保护膜的厚度越来越薄,对PR胶的刻蚀速率越来越小.本文研究结果便于更好地应对后续Ti/Al/Ti干法刻蚀衬底为有机膜的新工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李淳东		1	0	0.0	0.0
2	李知勋		1	0	0.0	0.0
3	陈兵		1	0	0.0	0.0
4	刘杰		1	0	0.0	0.0
5	吴国特		1	0	0.0	0.0
6	苗占成		1	0	0.0	0.0