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YVO
4
晶体的负折射特性分析与应用
YVO<sub>4</sub>晶体的负折射特性分析与应用
作者:
窦子凡
陈清明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
负折射
YVO
4
晶体
光轴
晶体波导
摘要:
论文研究YVO4中负折射的相关定量细节,以利用该结果设计新型晶体波导结构。利用e光在单轴晶体表面的折射公式,得到入射角、折射角、光轴取向角变化对负折射现象的影响:折射角随入射角增大而增大,随光轴取向角的增大先减小后增大再减小,真空与YVO4界面最大负折射角的最佳光轴取向角为46.43?。单轴晶体负折射可用于隐身技术中,利用两块光轴对称取向的YVO4孪晶结构可引导e光绕行一定范围或偏折一定的角度。定量的负折射实现条件、入射角及折射角范围,以及孪晶结构的光线偏折现象对YVO4晶体都有定量指导意义。
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篇名
YVO<sub>4</sub>晶体的负折射特性分析与应用
来源期刊
应用物理
学科
工学
关键词
负折射
YVO
4
晶体
光轴
晶体波导
年,卷(期)
2019,(12)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
504-510
页数
7页
分类号
TN2
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语种
DOI
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陈清明
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YVO
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应用物理
主办单位:
汉斯出版社
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月刊
ISSN:
2160-7567
CN:
开本:
出版地:
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
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