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摘要:
论文研究YVO4中负折射的相关定量细节,以利用该结果设计新型晶体波导结构。利用e光在单轴晶体表面的折射公式,得到入射角、折射角、光轴取向角变化对负折射现象的影响:折射角随入射角增大而增大,随光轴取向角的增大先减小后增大再减小,真空与YVO4界面最大负折射角的最佳光轴取向角为46.43?。单轴晶体负折射可用于隐身技术中,利用两块光轴对称取向的YVO4孪晶结构可引导e光绕行一定范围或偏折一定的角度。定量的负折射实现条件、入射角及折射角范围,以及孪晶结构的光线偏折现象对YVO4晶体都有定量指导意义。
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文献信息
篇名 YVO<sub>4</sub>晶体的负折射特性分析与应用
来源期刊 应用物理 学科 工学
关键词 负折射 YVO4晶体 光轴 晶体波导
年,卷(期) 2019,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 504-510
页数 7页 分类号 TN2
字数 语种
DOI
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作者信息
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1 陈清明 10 120 5.0 10.0
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研究主题发展历程
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负折射
YVO4晶体
光轴
晶体波导
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
应用物理
月刊
2160-7567
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
出版文献量(篇)
428
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