低损耗1080nm高功率激光高反膜元件的研制

• 作者: 李定 李钱陶 熊长新
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 高功率激光 低损耗 反射膜 离子束溅射 五氧化二钽 二氧化硅
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 97-102
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1+1
• 语种: 中文

摘要

针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求,设计了低损耗高反膜膜系,优化了膜系中的电场分布,对高反膜元件工艺体系进行了控制.采用离子束溅射工艺,成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2Os/SiO2体系高反膜,对所获得的高反膜元件表面粗糙度、光学性能及抗激光损伤能力进行了讨论与分析.结果 表明:研制的低损耗1 080 nm高功率激光高反膜元件表面粗糙度达到0.115 nm,在1 064nm处吸收和散射损耗之和约17ppm,可承受500 kW/cm2的激光辐照而不损伤,工艺技术应用前景良好.