低损耗193 nm反射膜的设计

• 作者: 尚淑珍 范正修 邵建达
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 反射膜 电场强度 吸收损耗 散射损耗
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 392-397
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.03.004

摘要

采用1/4规整膜系,从电场强度、吸收损耗及散射损耗的分布几个方面,对影响193 nm反射膜性能的因素进行了分析.以分析结果为基础,对低损耗193 nm反射膜的设计进行了探讨.结果表明:在空气侧的外膜层中电场强度较大,随着层数向内过渡,电场强度迅速减小;高折射率材料膜层的吸收损耗明显高于低折射率材料膜层的吸收损耗,而且靠近空气侧最外层的高折射率膜层的吸收损耗最大;按由外层向内层过渡的方向,吸收损耗迅速减小,减小的速度与高低折射率材料折射率的比值相关;表面散射损耗与两种材料的折射率比值成正比,但折射率比值减小后只能通过增加膜层数来获得一定的反射率,而这样又会使表面粗糙度增加,并且引入其它的损耗.因此,选择折射率差值适当大一些的材料对降低散射损耗是有利的.设计了27层膜堆的193 nm反射膜,设计反射率在98%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	尚淑珍		6	37	4.0	6.0