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等离子清洗工艺在HIC中运用可靠性研究
等离子清洗工艺在HIC中运用可靠性研究
作者:
左凤娟
朱仁贤
王腾
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子清洗
镀金
电容
溅射蒸镀
自我偏压
摘要:
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篇名
等离子清洗工艺在HIC中运用可靠性研究
来源期刊
混合微电子技术
学科
工学
关键词
等离子清洗
镀金
电容
溅射蒸镀
自我偏压
年,卷(期)
2019,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
77-82
页数
6页
分类号
TN405
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王腾
中国电子科技集团公司第四十三研究所
16
9
2.0
2.0
2
左凤娟
中国电子科技集团公司第四十三研究所
4
0
0.0
0.0
3
朱仁贤
中国电子科技集团公司第四十三研究所
5
0
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节点文献
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
混合微电子技术
主办单位:
中国电子集团公司第四十三研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
1458
总下载数(次)
46
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