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一种用于SKA的SiGe宽带低噪声放大器
一种用于SKA的SiGe宽带低噪声放大器
作者:
庞东伟
曹锐
桑磊
陈涛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
宽带
超低噪声
SiGe工艺
低噪声放大器
平方公里阵列(SKA)
摘要:
文章设计了一款用于平方公里阵列(Square Kilometer Array,SKA)接收前端的异质结双极型晶体管(heterojunction bipolar transistor,HBT)低噪声放大器.放大器的第1级在反馈电感的基础上采用电容负载,利用晶体管寄生电容拓展带宽;第2级利用发射极跟随放大器实现宽带内稳定的输出阻抗.采用HHNEC180 nm SiGe工艺对电路进行仿真,版图仿真结果表明,在0.5~1.5GHz内,噪声系数低于1.16 dB,最小噪声系数为0.76 dB,S21大于15 dB.整个电路尺寸为1.1 mm×0.98 mm(含焊盘),在3.3V供电电压下,功耗为34 mW.
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文献信息
篇名
一种用于SKA的SiGe宽带低噪声放大器
来源期刊
合肥工业大学学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
宽带
超低噪声
SiGe工艺
低噪声放大器
平方公里阵列(SKA)
年,卷(期)
2019,(2)
所属期刊栏目
电子科学与工程
研究方向
页码范围
211-214,236
页数
5页
分类号
TN722.33
字数
2198字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-5060.2019.02.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曹锐
中国电子科技集团公司第三十八研究所
17
51
3.0
6.0
2
桑磊
合肥工业大学光电技术研究院
10
16
2.0
3.0
3
陈涛
合肥工业大学光电技术研究院
24
191
6.0
13.0
4
庞东伟
合肥工业大学光电技术研究院
3
2
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1.0
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超低噪声
SiGe工艺
低噪声放大器
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
合肥工业大学学报(自然科学版)
主办单位:
合肥工业大学
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-5060
CN:
34-1083/N
开本:
大16开
出版地:
合肥市屯溪路193号
邮发代号:
26-61
创刊时间:
1956
语种:
chi
出版文献量(篇)
7881
总下载数(次)
18
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