纳米线距标准样片的研制和表征

• 作者: 孙虎 李锁印 梁法国 许晓青 赵琳
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米线距 CD-SEM 制作工艺 质量参数 均匀性 稳定性
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 754-760
• 页数: 7页
• 分类号: TB921
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2019.09.011

摘要

论述了线距标准在扫描电子显微镜(SEM)类测量仪器校准中的重要性和作为标准物质的基本要求,指出了纳米线距标准物质的研制和表征在纳米量值溯源体系中的重要作用.通过材料选择、结构设计和制作工艺优化研制出了线距标称值为100 nm的纳米线距标准样片.利用光学显微镜对样片的表面质量进行初检,利用CD-SEM对样片的表征考核区域进行了均匀性和长期稳定性的测量以及对线距尺寸进行定值,同时对测量结果进行计算分析.实验结果表明,研制的201710001纳米线距标准样片的对比度良好、线条平直,均匀性和稳定性均小于2 nm,且线距尺寸具有溯源性,可作为校准SEM类测量仪器图像放大倍率和图形畸变的标准物质使用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁法国	中国电子科技集团公司第十三研究所	54	104	5.0	7.0
2	孙虎	中国电子科技集团公司第十三研究所	5	122	3.0	5.0
3	李锁印	中国电子科技集团公司第十三研究所	27	40	3.0	5.0
4	赵琳	中国电子科技集团公司第十三研究所	20	27	3.0	3.0
5	许晓青	中国电子科技集团公司第十三研究所	11	15	2.0	3.0