新型光刻技术研究进展

• 作者: 何立文 孟钢 方晓东 罗乐 邵景珍
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 光学制造 新型光刻技术 无掩模光刻 掩模光刻 微纳结构
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与评述
• 页码范围: 30-37
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 6153字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2019.01.007

摘要

集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展.新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3 维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力.回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术,分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用.对未来光刻技术的发展方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方晓东	中国科学院安徽光学精密机械研究所	73	301	9.0	13.0
2	罗乐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	62	316	10.0	14.0
3	邵景珍	中国科学院安徽光学精密机械研究所	6	14	3.0	3.0
4	何立文	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	3	8	2.0	2.0
5	孟钢	中国科学院安徽光学精密机械研究所	2	5	1.0	2.0